该曝光及显影设备包括两组边缘曝光装置,其对应于该基板的两长边设置。
该两组边缘曝光装置共用一个驱动装置,铭牌曝光显影抛光,该驱动装置上分别对应于该基板的两长边各设有一组边缘曝光机和CXD影像处理器,惠州铭牌曝光显影,该驱动装置驱动该两组边缘曝光装置沿相同的方向移动相同位移量。
主体曝光机,用于对基板的主体进行曝光;基板输送机构,用于输送来自该主体曝光机的基板;传送装置,用于将来自该主体曝光机的基板传送至该基板输送机构;及基板导正装置,其设置于该基板输送机构的两侧,用于导正在该基板输送机构上输送的基板,以使该基板的边缘与该边缘曝光装置对齐。
4:由显影装置30对曝光后的基板S进行显影。
1:对基板S的主体进行曝光;
2:由基板输送机构50将基板S输送至显影装置30 ;
3:由边缘曝光装置20对基板S的边缘进行曝光;
4:由显影装置30对曝光后的基板S进行显影。
其中,铭牌曝光显影加工,在步骤I中可利用主体曝光机10对基板S的主体进行曝光。
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边缘曝光装置,用于对基板的边缘进行曝光;
显影装置,用于对曝光后的基板进行显影,该边缘曝光装置位于该显影装置的入口处;
其中,该基板在被输送至该显影装置的过程中,铭牌曝光显影工艺,被该边缘曝光装置进行边缘曝光。
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