自显机显影套药的性能在使用中，虽经补充仍有衰减。我们通过对自显机显影液性能的系统观测，并分期进行不同且条件补偿，根据补偿后特性曲线试叼于析和选择，提出了较理想的条件补偿值。此法可对不同条件时，耳机曝光显影厂，自显机套药性能衰减的条件补偿提出理论依据，禅城耳机曝光显影，使线照片的影像质盈保持恒定。 自显机套药的使用时间又受胶片冲洗量的制约，使用时间越长，胶片的灰雾度越大，耳机曝光显影订制，反差越小，药液氧化和衰减越明显。
工艺工程师的目标是保持尽可能低的重新工艺处理率，处理率应小于10%，而5%是一个受欢迎的水平。在掩膜次序中有较宽的特征图形尺寸、较平的表面和较低的密度，所有这些会使掩膜良品率更高。曝光后应尽快进行显影步骤中的烘干处理，从而有效降低驻波效应的影响，这是由于曝光过程中，入射光和反射光会产生相互干涉， 耳机曝光显影耳机曝光显影耳机曝光显影
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