显影是在正性光刻胶的曝光区和负性光刻胶的非曝光区的光刻胶在显影液中溶解，在光刻胶上形成三维图形的一种光刻技术。显影过程如图1 [1] 所示，铭牌曝光显影厂商，非曝光区的光刻胶由于在曝光时并未发生化学反应，在显影时也就不会存在这样的酸碱中和，因此非曝光区的光刻胶被保留下来。在显影时曝光区和非曝光区的光刻胶都有不同程度的溶解。曝光区与非曝光区的光刻胶溶解速度反差越大，铭牌曝光显影定做，显影后得到的图形对比度越高。
如果不正确掌握会对线胶片成像质量带来很大影响。为解决这一问题我们采用增加曝光量的方法来进行补偿，以使线胶片的成像质量保持在相对恒定水平。曝光显影是蚀刻工艺中非常重要的部分，它是图案准确度的决定性因素，因此曝光显影管控非常重要，之前鑫海森有编辑过“曝光显影在蚀刻加工中的作用”； 以上结束后，进行检测，合格品就可以进入蚀刻加工了。蚀刻加工的产品大都为精密零件，因此每一步的工艺设置与检测都需要严格控制，才能保证蚀刻完成后的加工质量。
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