从上式可以看出,曝光总能量E随光强度J和曝光时间T而变化。当曝光时间丁一定,光强度改变,曝光总能量也随之改变。所以尽管严格控制了曝光时间,但实际上干膜在每次曝光时所获得的曝光总能量并不一定相同,因而聚合程度也就不同。为使每次曝光能量相同,利用稀碱溶液与光致抗蚀剂中未曝光部分的活性基团(羧基)反应,生成可溶性的物质溶于水,而曝光部分的干膜不发生溶解。
曝光显影工艺及技术流程
1. 喷涂前清洗 等离子表面处理
虽然在前段已经过清洗,圆弧面曝光显影订制,但喷涂前盖板表面的洁净度至关重要,故需再次进行清洗和表面处理。一般采用托盘装载方式清洗可以做到15~30片同时加工。
油墨 预固化
喷涂完成的盖板在高温烤箱进行烘烤,使表面油墨初步固化,提高附着力。
图形曝光方式
根据产品需要的图形制成配套的 MASK( 掩膜版 ) ,圆弧面曝光显影工艺, MASK 与喷墨后的盖板紧密接触,通过曝光技术,使图形转印到玻璃之上。根据不同油墨的特性以及不同颜色油墨的遮蔽特点,重复以上制程。
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