曝光是指将感光板置于晒版机工作台上，拉丝面曝光显影报价，放好底片，拉丝面曝光显影，通过曝光 获得一种潜在或可见图像的过程。曝光是一切光化学成像方法的基本过程与主要特征。曝光的物理含意是指光线使感光层面(涂了感光化学物)产生潜影。曝光后的工序是化学显影，拉丝面曝光显影加工，显影使潜影显现并固化。线路板曝光机：用紫外线(UV)的能量，使干膜或印墨中的光敏物质进行光化学反应，以达到选择性局部架桥硬化的效果，完成影像转移的目的称为曝光。
曝光定位 ①目视定位 适用于重氮照相底法。利用稀碱溶液与光致抗蚀剂中未曝光部分的活性基团(羧基)反应，生成可溶性的物质溶于水，而曝光部分的干膜不发生溶解。然后贴上胶带贴牢，即可进行曝光。曝光后，聚合反应还要持续一段时间，为保证工艺的稳定性，曝光后不要立即揭去聚酯膜，利用稀碱溶液与光致抗蚀剂中未曝光部分的活性基团(羧基)反应，生成可溶性的物质溶于水，而曝光部分的干膜不发生溶解。
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