影响曝光显影质量的因素：
①光源的选择要求是干膜光谱吸收主峰与光源发射主峰重叠或大部分重叠。
②曝光时间的控制 曝光时间是影响干膜图像非常重要的因素。确定曝光时间的方法是使用云斯顿17级光密度表或斯托夫21级密度表，而且需凭经验进行观察。因为光源强度是随电压改变而波动，亮面曝光显影工厂，随灯的老化而下降的。亮面曝光显影
曝光显影：各种不同材质的手机壳加工工艺，
简单说下各种材质的不同优缺点：
1、硅胶套：比较软，拆卸极其方便，这种材质成本较低，容易变形主要是颜色容易发黄，用不多久就会有很明显，
2、TPU热塑性聚氨酯弹性体橡胶，这种材质耐磨、耐油，硬度适中，为大多数手机壳品牌商的选择，亮面曝光显影生产商，通常采用打印工艺，可以批量订制，不需要多少钱就可以开一个小作坊，然后1个2个都比较灵活，亮面曝光显影
显影要充分。显影是与下道工序直接相连的重要工序，其质量的好与坏是整个图形转移成功与否的重要标志。
蚀刻：利用蚀刻液与铜层反应，亮面曝光显影厂商，蚀去线路板上不需要的铜，石碣亮面曝光显影，得到所要求的线路.曝光：经光源作用将原始底片上的图像转移到感光底板(即PCB)上.图形转移是制造高密度多层板的关键控制点，也是技术难点，其质量的优劣直接影响多层板的合格率。亮面曝光显影
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