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曝光，是用紫外线光照射，以黑色不透光底片当遮掩介质，而无遮掩的部分油墨发生化学反应固化在pcb高密度多层板上，音箱壳曝光显影定制，进行图形转移，把底片上的线路转移到敷铜板上。将板件放在干净的曝光机上玻璃面上，盖上曝光机盖并扣紧，关闭进气阀，设置曝光机的真空时间为10秒，浈江音箱壳曝光显影，曝光时间60秒。开启电源并按启动键，真空抽气机抽真空，10秒后曝光开始，待曝光灯熄灭，曝光完成。

对准曝光阶段是光刻工艺的重要阶段，使用的掩膜曝光机，即光刻机，集中了光刻工艺中重要的工艺技术。对准曝光过程通常在黄光实验室中进行。

使用的光刻机也根据不同的曝光原理，分为接触式曝光，接近式曝光和投影式曝光。也可按自动化程度高低分成手动式，半自动式NXQ4006，和全自动式光刻机NXQ8000系列曝光后应尽快进行显影步骤中的烘干处理，音箱壳曝光显影厂商，从而有效降低驻波效应的影响，


显影检验良品率和重新工艺处理率随掩膜水平而变。总体上，在掩膜次序中有较宽的特征图形尺寸、较平的表面和较低的密度，音箱壳曝光显影公司，所有这些会使掩膜良品率更高。在晶圆到了关键的接触和连线步骤时，重新工艺处理率会有上升趋势。总体上有四类晶圆上的问题适用于显影检验和终检验，如在图案尺寸（关键尺寸测量）上会有偏差；有定位不准的图案；有表面问题如光刻胶的污染、空洞或划伤及污点和其它的表面不规则。


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