PEB之后，硅片冷却至23℃左右，与显影液温度相同，并与显影液发生化学反应。一般来说，显影过程中被曝光和未曝光部分的光刻胶都会与光刻胶发生反应，对显影的要求不高，可以直接将硅片放入显影液槽中浸泡然后取出。对于大部分对显影要求较高的生产及实验过程，通常使用的匀胶显影机来自动控制显影过程，五金丝印曝光显影定做，如图所示。五金丝印曝光显影五金丝印曝光显影
自显机显影套药的性能在使用中，虽经补充仍有衰减。我们通过对自显机显影液性能的系统观测，并分期进行不同且条件补偿，根据补偿后特性曲线试叼于析和选择，越秀五金丝印曝光显影，提出了较理想的条件补偿值。此法可对不同条件时，五金丝印曝光显影报价，自显机套药性能衰减的条件补偿提出理论依据，使线照片的影像质盈保持恒定。 自显机套药的使用时间又受胶片冲洗量的制约，使用时间越长，胶片的灰雾度越大，反差越小，药液氧化和衰减越明显。
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