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曝光机理:通过紫外光照射,使干膜感光剂中的非聚合状态有机分子桥接成聚合体。·光源:散射光、准平行光、平行光、激光。·设备:手动对位曝光机,半自动对位曝光机,拉丝面曝光显影生产商,自动曝光机,LDI曝光机,拉丝面曝光显影,DI曝光机。曝光后的工序是化学显影,显影使潜影显现并固化。工业上很多设备都应用了曝光的原理,拉丝面曝光显影企业,将图文信号转移到需要的材料上。
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显影检验良品率和重新工艺处理率随掩膜水平而变。总体上,在掩膜次序中有较宽的特征图形尺寸、较平的表面和较低的密度,所有这些会使掩膜良品率更高。首先,一部分晶圆会从上一步留下来问题而要停止工艺处理。这些晶圆在显影检验时会被拒绝接受并进行处理。检验的目的是区分那些有很低可能性通过终掩膜检验的晶圆;提供工艺性能和工艺控制数据;及分拣出需要重做的晶圆。
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