显影的主要过程如下：
对准曝光→曝光后烘→显影→坚膜→显影检测。
对准曝光（Alignment and Exure）
对准曝光阶段是光刻工艺的重要阶段，使用的掩膜曝光机，即光刻机，集中了光刻工艺中重要的工艺技术。对准曝光过程通常在黄光实验室中进行。
经达长期的实实践经验总结，如经的PCB线路板厂家在曝光与显影工艺上都会有严格的技术参数控制。由于UV光具有穿透物质的特性，同时也由于环氧树脂等具有强烈吸收UV光的特性，五金腐蚀曝光显影订制，因而具有强烈的光交链反应，尽管通过曝光的光化学（交链）作用，基本上固化了，但大多是不的。加上显影、清洗等吸收的水份，所以要通过加热来完成
曝光定位 ①目视定位 适用于重氮照相底法。利用稀碱溶液与光致抗蚀剂中未曝光部分的活性基团(羧基)反应，生成可溶性的物质溶于水，而曝光部分的干膜不发生溶解。然后贴上胶带贴牢，即可进行曝光。曝光后，聚合反应还要持续一段时间，为保证工艺的稳定性，五金腐蚀曝光显影生产厂家，曝光后不要立即揭去聚酯膜，利用稀碱溶液与光致抗蚀剂中未曝光部分的活性基团(羧基)反应，生成可溶性的物质溶于水，而曝光部分的干膜不发生溶解。
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