蚀刻技术可以分为湿蚀刻和干蚀刻两类。
早可用来制造铜版、锌版等印刷凹凸版，也广泛地被使用于减轻重量仪器镶板，
正显影中显影色粉所带电荷的极性，反转显影中感光鼓与色粉电荷极性是相同的。电子薄片零件精密蚀刻产品的加工，圆弧面曝光显影定制，特别在半导体制程上，蚀刻更是不可或缺的技术。PCB板上的线路图形就是PCB线路板厂家采用曝光成像与显影蚀刻工艺技术来完成的，
在显影和烘焙之后就是要完成光刻掩膜工艺的质检。适当地来说应叫显影检验（develop inspect）或DI。检验的目的是区分那些有很低可能性通过终掩膜检验的晶圆；提供工艺性能和工艺控制数据；及分拣出需要重做的晶圆。这时的检验良品率，也就是通过这个质检的晶圆数量，不会计入终良品率的计算。但是有两个主要原因使之成为很受关注的良品率。
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