曝光显影：曝光后显影不良是什么原因？下面一起去了解下：
图形转移是制造高密度多层板的关键控制点，
显影要充分。显影是与下道工序直接相连的重要工序，其质量的好与坏是整个图形转移成功与否的重要标志。很容易造成印制电路板的报废，铭牌曝光显影，是生产中特别要注意的要点。图形电镀过程中，铭牌曝光显影订做，显影是与下道工序直接相连的重要工序，其质量的好与坏是整个图形转移成功与否的重要标志。铭牌曝光显影
曝光显影 双色氧化工艺验证 镜面铝 镜面铝LOGO 镜面阳极氧化铝合金材料，铭牌曝光显影工艺，应用于品牌LOGO。影响曝光显影质量的因素 曝光显影时间的控制 曝光时间是影响干膜图像非常重要的因素。干膜光谱吸收主峰与光源发射主峰重叠或大部分重叠。曝光时间是影响干膜图像非常重要的因素。确定曝光时间的方法是使用云斯顿17级光密度表或斯托夫21级密度表，而且需凭经验进行观察。
曝光显影双色氧化的工艺原理：
双色氧化是利用多种工艺手段在铝件上阳极氧化并形成两种颜色的过程。
铭牌曝光显影
曝光显影时间的控制 曝光时间是影响干膜图像非常重要的因素。由于UV光具有穿透物质的特性，同时也由于环氧树脂等具有强烈吸收UV光的特性，因而具有强烈的光交链反应，从而使固化完全和赶出物质。显影包括正显影和反转显影。正显影中显影色粉所带电荷的极性，与感光鼓表面静电潜像的电荷极性是相反的，包含涂胶匀胶、烘烤、单面曝光和显影等功能单元的整套光刻显影曝光系统。铭牌曝光显影
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