PEB之后,硅片冷却至23℃左右,拉丝面曝光显影定做,与显影液温度相同,并与显影液发生化学反应。一般来说,显影过程中被曝光和未曝光部分的光刻胶都会与光刻胶发生反应,对显影的要求不高,可以直接将硅片放入显影液槽中浸泡然后取出。对于大部分对显影要求较高的生产及实验过程,通常使用的匀胶显影机来自动控制显影过程,如图所示。拉丝面曝光显影拉丝面曝光显影
自显机显影套药的性能在使用中,虽经补充仍有衰减。我们通过对自显机显影液性能的系统观测,拉丝面曝光显影抛光,并分期进行不同且条件补偿,根据补偿后特性曲线试叼于析和选择,提出了较理想的条件补偿值。此法可对不同条件时,自显机套药性能衰减的条件补偿提出理论依据,拉丝面曝光显影生产厂家,使线照片的影像质盈保持恒定。 自显机套药的使用时间又受胶片冲洗量的制约,拉丝面曝光显影,使用时间越长,胶片的灰雾度越大,反差越小,药液氧化和衰减越明显。
显影:在印刷、影印、复印、晒图等行业中,让影像显现的一个过程。通常指在复印机、打印机中显影就是用带电的色粉使感光鼓上的静电潜像转变成可见的色粉图像的过程。印制电路板(PCB)生产过程中在线路和阻焊工序,需要经过贴膜(或网印)、对位、曝光、显影等加工步骤,将照相底版上的图形转移到在制PCB的表面上。其中的显影步骤是使用低浓度的碱性显影液将干膜或油墨未被曝光的部分通过化学反应溶解于显影液中,已经曝光聚合的部分保留在电路板上完成图形制作的过程
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