曝光，是用紫外线光照射，以黑色不透光底片当遮掩介质，而无遮掩的部分油墨发生化学反应固化在pcb高密度多层板上，进行图形转移，把底片上的线路转移到敷铜板上。将板件放在干净的曝光机上玻璃面上，盖上曝光机盖并扣紧，关闭进气阀，设置曝光机的真空时间为10秒，曝光时间60秒。开启电源并按启动键，真空抽气机抽真空，10秒后曝光开始，待曝光灯熄灭，曝光完成。
PEB之后，南海曝光显影，硅片冷却至23℃左右，与显影液温度相同，并与显影液发生化学反应。一般来说，显影过程中被曝光和未曝光部分的光刻胶都会与光刻胶发生反应，对显影的要求不高，可以直接将硅片放入显影液槽中浸泡然后取出。对于大部分对显影要求较高的生产及实验过程，通常使用的匀胶显影机来自动控制显影过程，如图所示。曝光显影曝光显影
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