什么是曝光显影工艺？
不同的物质通过对不同波长紫外光的吸收，分子会发生能级跃迁，从基态跃迁至激发态，改变物质化学性能。
在曝光显影工艺中，只有对以上各种公差配合完全掌握，韶关亮面曝光显影，才能简单可靠的做出合格产品。较薄的油墨利于贴合，提高制程整体良率，亮面曝光显影设计，油墨薄可以做到2um，不透光。油墨 预固化
喷涂完成的盖板在高温烤箱进行烘烤，使表面油墨初步固化，提高附着力。
从上式可以看出，曝光总能量E随光强度J和曝光时间T而变化。当曝光时间丁一定，光强度改变，曝光总能量也随之改变。所以尽管严格控制了曝光时间，但实际上干膜在每次曝光时所获得的曝光总能量并不一定相同，因而聚合程度也就不同。为使每次曝光能量相同，亮面曝光显影价格，利用稀碱溶液与光致抗蚀剂中未曝光部分的活性基团(羧基)反应，生成可溶性的物质溶于水，而曝光部分的干膜不发生溶解。
工艺工程师的目标是保持尽可能低的重新工艺处理率，处理率应小于10%，而5%是一个受欢迎的水平。在掩膜次序中有较宽的特征图形尺寸、较平的表面和较低的密度，所有这些会使掩膜良品率更高。曝光后应尽快进行显影步骤中的烘干处理，从而有效降低驻波效应的影响，亮面曝光显影抛光，这是由于曝光过程中，入射光和反射光会产生相互干涉， 亮面曝光显影亮面曝光显影亮面曝光显影
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