显影的主要过程如下：
对准曝光→曝光后烘→显影→坚膜→显影检测。
.1 对准曝光（Alignment and Exure）
自显机显影套药的性能在使用中，虽经补充仍有衰减。我们通过对自显机显影液性能的系统观测，并分期进行不同且条件补偿，根据补偿后特性曲线试叼于析和选择，提出了较理想的条件补偿值。此法可对不同条件时，自显机套药性能衰减的条件补偿提出理论依据，外壳曝光显影哪家好，使线照片的影像质盈保持恒定。 自显机套药的使用时间又受胶片冲洗量的制约，使用时间越长，胶片的灰雾度越大，韶关外壳曝光显影，反差越小，外壳曝光显影抛光，药液氧化和衰减越明显。
曝光机理：通过紫外光照射，外壳曝光显影工艺，使干膜感光剂中的非聚合状态有机分子桥接成聚合体。·光源：散射光、准平行光、平行光、激光。·设备：手动对位曝光机，半自动对位曝光机，自动曝光机，LDI曝光机，DI曝光机。曝光后的工序是化学显影，显影使潜影显现并固化。工业上很多设备都应用了曝光的原理，将图文信号转移到需要的材料上。
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