1、曝光过度会导致显影不净。
2、曝光能量不足会导致显影过度。
3、实际曝光能量需根据干膜种类、厚度或油墨种类/厚度/烘烤时间确定,正常线路曝光使用能量40 -- 120mj/cm2,保温杯曝光显影订做,油墨曝光能量150-500mJ/cm2,具体以曝光尺为准;
曝光机理:通过紫外光照射,使干膜感光剂中的非聚合状态有机分子桥接成聚合体。·光源:散射光、准平行光、平行光、激光。·设备:手动对位曝光机,大岭山保温杯曝光显影,半自动对位曝光机,自动曝光机,LDI曝光机,保温杯曝光显影生产厂商,DI曝光机。曝光后的工序是化学显影,显影使潜影显现并固化。工业上很多设备都应用了曝光的原理,将图文信号转移到需要的材料上。
在显影和烘焙之后就是要完成光刻掩膜工艺的质检。适当地来说应叫显影检验(develop inspect)或DI。检验的目的是区分那些有很低可能性通过终掩膜检验的晶圆;提供工艺性能和工艺控制数据;及分拣出需要重做的晶圆。这时的检验良品率,也就是通过这个质检的晶圆数量,不会计入终良品率的计算。但是有两个主要原因使之成为很受关注的良品率。
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