进行曝光操作前，需要对印刷有油墨的pcb高密度多层板进行烘干处理。光源的选择、曝光时间的长短、底片的生产、储存和使用，曝光机的真空系统和真空曝光框架材料的选择等因素将影响曝光成像的质量。按相同方法固定另一面底片。将板件放在干净的曝光机上玻璃面上，盖上曝光机盖并扣紧，关闭进气阀，设置曝光机的真空时间为10秒，曝光时间60秒。
光刻胶的显影和光刻工艺今天小编要跟大家简要介绍关于光刻胶的显影过程和光刻工艺处理的一些相关内容。光刻工艺可用五个指标来衡量其效果：分辨率、灵敏度、套刻对准精度、缺陷率和硅片加工过程处理问题，充电宝标牌曝光显影工厂，使用的光刻机也根据不同的曝光原理，充电宝标牌曝光显影工艺，分为接触式曝光，充电宝标牌曝光显影，接近式曝光和投影式曝光。目前通常采用曝光后立刻烘干方式，即PEB，减少驻波效应带来的影响。
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