清溪利成感光 手机壳LOGO曝光显影厂家

曝光：由于涂覆PCB线路板基材上的绝缘介质层厚度较厚，因此，要采用较大率的曝光机对PCB线路板进行曝光，如采用7千瓦的金属卤化物（如钨灯）的灯和在具有平行（或反射好的准平行光）的曝光机上行。

1、曝光过度会导致显影不净。

2、曝光能量不足会导致显影过度。

3、实际曝光能量需根据干膜种类、厚度或油墨种类/厚度/烘烤时间确定，手机壳LOGO曝光显影订做，正常线路曝光使用能量40 -- 120mj/cm2，油墨曝光能量150-500mJ/cm2，手机壳LOGO曝光显影，具体以曝光尺为准；

显影检验良品率和重新工艺处理率随掩膜水平而变。总体上，在掩膜次序中有较宽的特征图形尺寸、较平的表面和较低的密度，所有这些会使掩膜良品率更高。首先，一部分晶圆会从上一步留下来问题而要停止工艺处理。这些晶圆在显影检验时会被拒绝接受并进行处理。检验的目的是区分那些有很低可能性通过终掩膜检验的晶圆；提供工艺性能和工艺控制数据；及分拣出需要重做的晶圆。

显影的主要过程如下：

对准曝光→曝光后烘→显影→坚膜→显影检测。

对准曝光（Alignment and Exure）

对准曝光阶段是光刻工艺的重要阶段，手机壳LOGO曝光显影生产厂商，使用的掩膜曝光机，即光刻机，集中了光刻工艺中重要的工艺技术。对准曝光过程通常在黄光实验室中进行。

曝光后应尽快进行显影步骤中的烘干处理，手机壳LOGO曝光显影厂家，从而有效降低驻波效应的影响，这是由于曝光过程中，


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