显影的主要过程如下:
对准曝光→曝光后烘→显影→坚膜→显影检测。
对准曝光(Alignment and Exure)
对准曝光阶段是光刻工艺的重要阶段,使用的掩膜曝光机,即光刻机,集中了光刻工艺中重要的工艺技术。对准曝光过程通常在黄光实验室中进行。
曝光后应尽快进行显影步骤中的烘干处理,从而有效降低驻波效应的影响,保温杯曝光显影厂,这是由于曝光过程中,保温杯曝光显影厂家,入射光和反射光会产生相互干涉,其光强会沿着胶体水平方向形成波纹形状,即驻波。目前通常采用曝光后立刻烘干方式,保温杯曝光显影哪里有,即PEB,减少驻波效应带来的影响。使用的光刻机也根据不同的曝光原理,分为接触式曝光,接近式曝光和投影式曝光。保温杯曝光显影保温杯曝光显影
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